Система электронно-лучевой литографии JBX-6300FS

JBX-6300FS может легко записывать узоры размером до 8 нм или меньше (фактический результат: 5 нм) благодаря использованию электронно-оптической системы, которая автоматически регулирует электронный пучок диаметром 2.1 нм при ускоряющем напряжении 100 кВ. Кроме того, эта система EB обеспечивает высокую точность сшивания в полевых условиях и наложения 9 нм или меньше, обеспечивая высокую производительность по цене. Кроме того, уникальная функция автоматической коррекции, разработанная JEOL, обеспечивает высокоточное написание шаблонов. JBX-6300FS отвечает широкому спектру требований, таких как исследования и разработки передовых устройств, исследования и разработки, связанные с нанотехнологиями, и производство устройств связи.

Особенности

• JBX-6300FS может создавать высокоточные узоры даже на углах и границах поля благодаря использованию мощной электронно-оптической системы, которая автоматически корректирует искажения, возникающие при отклонении луча.

• Поскольку JBX-6300FS имеет высокоточный столик, в котором используется ЦАП позиционирования луча на 19 бит с разрешением 0.125 нм и лазерный интерферометр с разрешением 0.6 нм, первоклассная точность позиционирования при записи 9 нм или меньше достигается для небольших полей до поля большой площади.

• JBX-6300FS имеет функцию автоматической регулировки луча, позволяющую корректировать дозу луча и коррекцию положения луча во время записи шаблона.

• Время коррекции может быть установлено для каждого поля или каждого шаблона. Эта функция очень эффективна при длительной записи без оператора, например, в выходные или праздничные дни.

• JBX-6300FS значительно сокращает время записи шаблонов благодаря высокой скорости сканирования до 50 МГц, а также максимальному сокращению машинного времени. Операции до начала записи очень просты, как и автоматическая фокусировка, что повышает общую пропускную способность.

• Если используется автозагрузчик (опция), JBX-6300FS может выполнять непрерывную запись для держателей образцов до 10. (Пример: непрерывная запись до 10 пластин диаметром 150 мм, до 40 пластин диаметром 50 мм и т. д. письмо, держатели образцов эквивалентны количеству материалов). JEOL поставила такую ​​систему EB на производственные линии в Японии и за рубежом.

• Использование программы Fine Pitch Control Program (программа точной модуляции размера поля) позволяет JBX-6300FS изготавливать решетку с чирпированным периодом, такую ​​как лазер DFB.

Результаты внедрения

За более чем 40 лет компания JEOL поставила большое количество электронно-лучевых систем исследовательским институтам и производственным линиям в Японии и за рубежом.

Характеристики

Подробнее