JIB-4610F — это простой в использовании сканирующий электронный микроскоп (СЭМ) без объектива, оснащенный электронной пушкой Шоттки, а также новой колонкой FIB, способной обрабатывать большие токи (максимальный ионный ток 90 нА), установленными в одной камере. . JIB-4610F обеспечивает наблюдение с помощью СЭМ с высоким разрешением после высокоскоростного фрезерования поперечного сечения с помощью FIB и высокоскоростной анализ с помощью различных аналитических инструментов, таких как энергодисперсионная рентгеновская спектроскопия (ЭДС), которая использует преимущества электронов Шоттки. пистолет, обеспечивающий большой ток зонда (200 нА), дифракцию обратного рассеяния электронов (EBSD) для проведения кристаллографических характеристик и катодолюминесценцию (CLD). Кроме того, в стандартную конфигурацию включена функция 3D-анализа Cut & See, позволяющая автоматически выполнять фрезерование поперечного сечения через фиксированные интервалы, получая изображения СЭМ для каждого поперечного сечения.
Особенности
Более быстрая обработка более широкой области
Принятие новой колонки FIB обеспечивает максимальный ионный ток 90 нА при ускоряющем напряжении 30 кВ, достигая разрешения 4 нм.
В результате возможна даже более быстрая обработка, чем при использовании обычных инструментов. (Обработка более чем в 1.5 раза быстрее, чем существующие инструменты (собственное сравнение).) Это особенно полезно для обработки больших площадей (объемов).
Также возможно удалить поврежденные слои из-за обработки с помощью ионного пучка с низким ускоряющим напряжением, что позволяет получить чистые полированные поверхности.
Более точный анализ
Колонка с электронной пушкой с максимальным током зонда 200 нА поддерживает высокоскоростной анализ с высоким разрешением с использованием таких методов, как EDS, EBSD и CLD (опция). Высокоскоростной анализ также способствует уменьшению дрейфа и повреждений, вызванных электронным лучом. Эта колонка с электронной пушкой Шоттки, проверенная компанией JEOL, позволяет получать высоконадежные данные благодаря улучшенной стабильности электронного луча и механической стабильности.
3D-наблюдение, 3D-анализ
Комбинируя различные типы блоков анализа (опции) с сильноточным FIB и SEM высокого разрешения, включающим электронную пушку Шоттки, можно достичь следующих функций:
Автоматическая, непрерывная обработка и просмотр изображений SEM с помощью Cut & See.
Автоматический, непрерывный сбор данных картирования EDS и EBSD.
Наложение и наложение непрерывно получаемых изображений позволяет выполнять различные типы трехмерных наблюдений и анализов (опция). Кроме того, данные могут быть получены для любого типа анализа без наклона или поворота предметного столика.
Еще более широкий спектр приложений
За счет установки столика охлаждения и блока Cryo (опция) можно уменьшить термические повреждения из-за ионно-лучевого облучения во время обработки FIB. Криоблок также эффективен для обработки и наблюдения за образцами, содержащими воду.
Совместимость с другими продуктами JEOL
Поскольку держатели образцов для JIB-4610F также можно использовать с инструментами JEOL FE-SEM, образцы можно загружать между инструментами, не перенося их в другой держатель. Это обеспечивает более эффективное наблюдение и обработку с использованием навигационных функций для установки и нахождения нужных позиций для наблюдений и обработки (опция).
Кроме того, как вариант, использование челночного фиксатора для обеспечения совместимости между наконечником держателя ТЕМ и столиком серии JIB облегчает установку образца, дополнительно повышая производительность.
Характеристики
| SEM | |
|---|---|
| Электронная пушка | Тип полевой эмиссии Шоттки |
| Объектив | Ультраконический объектив |
| Постановления | 1.2 нм (@ Vacc: 30 кВ), 3.0 нм (@ Vacc: 1 кВ) |
| Ускоряющее напряжение | От 0.1 до 30 кВ |
| Ток зонда | 1пА～200нА |
| Объектив с оптимизацией угла диафрагмы | Встроенный |
| Увеличение | х20～х1,000,000 XNUMX XNUMX |
| FIB | |
| ионная пушка | Источник ионов жидкого металла Ga (LMIS) |
| Постановления | 4 нм (в вакууме: 30 кВ) |
| Увеличение | ×100～300,000 50 (обработка) / ×300,000～XNUMX XNUMX (наблюдение) |
| Ускоряющее напряжение | 1～30 кВ |
| Ток зонда | 1 пА～90 нА (в перем. тока: 30 кВ) |
| Детекторы | Нижний детектор электронов
Р-БЭИ (опция) СТЕМ (опция) |
| Мягкий луч (напряжение смещения образца) | Встроенный (напряжение, подаваемое на образец: от 0 до -2,000 В) |
| Камера обмена образцами | Встроенный |
| Стадия образца | 6-осевой столик с моторным приводом |
| Диапазон перемещения образца | X；50мм, Y；50мм, Z；1.5～41мм, T(наклон)；-5～70°, R (вращение)；360°бесконечно, Fz；-3 до +3мм |
| Метод обмена образцами | Зажим в одно касание |
| Держатели образцов | Стандартные держатели；φ12.5 мм, φ32 мм
Дополнительные держатели；Держатель пластин φ76.2 держатель пластин φ100 мм держатель пластин φ125 мм держатель пластин φ150 мм 2, 4, 6 дюймовые объемные держатели, Поверхностный держатель для нескольких образцов, держатель STEM, Держатель фиксатора челнока, Держатель в одно касание |
| Объем камеры | Камера для образцов (опция) |
| Автоматические функции | Автофокус
Автоматическая регулировка яркости |
| Контроль системы | ПК системы управления РЭМ
-IBM PC/AT совместимый -ОЗУ 4 Гб и более -ОС Windows®7 Профессиональная |
| монитор | 24-дюймовый |
| ИзображениеДисплей | Область отображения изображения 1,280×980 пикселей или 640×480 пикселей
(размер графического интерфейса: 1,600×1,200) |
| Режимы отображения | Стандарт； SEM_SEI, FIB_SEI, SEM_MIX
Опции； SEM_COMPO, SEM_TOPO, SEM_TED, AUX |
| Режимы сканирования/отображения | Сканирование ограниченной области, добавление изображения, скалер,
Экранный дисплей； 1 экран, 2 экрана (стандарт), 4 экрана |
| Предельный вакуум | HV；2.0×10E-4Па (при использовании ГИС；<3.0E－3Па) |
| Система эвакуации | СИП×2 (СЭМ) ,
СИП×1 (ФИБ), ТМП×1, РП×1 |
| Потребление энергии | При обычной работе ок. 2.0 кВА |
| CO2 эквивалент выбросов | Годовой CO2 Выбросы При обычной эксплуатации 4,967 XNUMX кг |
| Устройства безопасности | Защита от потери вакуума, сбоя питания, утечки воды, потери давления газа N2 и тока утечки. |
| след | 3,200 мм или более × 3,000 мм или более |
| Требования к установке | Напряжение питания
Одна фаза 200 В, 50/60 Гц, макс. 6 кВА, нормальное использование прибл. 2.0 кВА Допустимое колебание входного питания в пределах ±10% Клемма заземления 100 Ом или менее x 1 Охлаждающая вода Подводящая труба внеш. диам. 14 мм x 1 или JIS B 0203 Rc 1/4 x 1 Скорость потока 0.5 л/мин Давление воды от 0.1 до 0.25 МПа (манометрическое давление) Температура воды 20 ℃ ± 5 ℃ Слив ин.диам. 25 мм или более x1 или JIS B 0203 Rc 1/4 x 1 Сухой газообразный азот JIS B 0203 Rc 1/4 (предоставляется пользователем) Давление от 0.45 до 0.55 МПа (избыточное давление) Комната установки Комнатная температура 20 ℃ ± 5 ℃ Влажность 60% или ниже Магнитное поле рассеяния 0.3 мкТл (PP) или меньше (синусоида 50/60 Гц)*1 Вибрация пола 2 мкм (PP) или ниже*1 при частоте синусоиды более 5 Гц. *1 Шум 70 дБ или ниже *1 для ПЛОСКОЙ характеристики Размер помещения для установки 3,000 мм x 3,000 мм или более Высота 2,300 мм или выше Размер двери 1,000 мм *2 (Ш) x 2,000 мм (В) или более
|
| Основные варианты | ГИС (C, W, Pt), EDS, WDS, EBSD, CL, Cryo, камерная камера, SNS и т. д. |
Windows является зарегистрированным товарным знаком Microsoft Corporation в США и других странах.
Приложения
Приложение JIB-4610F
Сравнение методов трехмерной визуализации в электронной микроскопии биоматериалов
Фото
Подробнее
Вы медицинский работник или персонал, занимающийся медицинским обслуживанием?
Нет
Напоминаем, что эти страницы не предназначены для предоставления широкой публике информации о продуктах.