Закрыть кнопку

Выберите свой региональный сайт

Закрыть

ТП-40020НПС
Термический плазменный нанопорошок
Система синтеза

TP-40020NPS Система термоплазменного синтеза нанопорошка

Особенности

Многоцелевой эксперимент или небольшая производственная система, в которой используется высокочастотная индукционная плазма сверхвысокой температуры, высокой чистоты и сильного поля химической реакции.
Основными областями применения являются синтез нанопорошков и обработка поверхности мелкодисперсного порошка.
Компактная одноблочная система, небольшая занимаемая площадь, простота установки и эксплуатации.

Особенности

Термическая плазма на основе аргона.
Может генерировать смешанную плазму, вводя другие газы, такие как кислород, азот и водород.
Путем введения сырья, такого как мелкие частицы, в плазму, испарение или плавление, химическая реакция или риформинг выполняются мгновенно.
Можно создавать наноматериалы, не только одноэлементные наночастицы, но и композитные наночастицы.
Синтез материалов высокой чистоты с использованием неплавящегося электрода и плазменного процесса в полете.

Примеры синтеза нанопорошков

Синтез нанопорошка никеля из мелкодисперсного порошка размером ок. от 2 до 3 микрон

Синтез нанопорошка кремния из мелкодисперсного порошка размером ок. 1 микрон

Синтез нанопорошков многоэлементной керамики методом мгновенного испарения из смеси нескольких керамик

Пример синтеза нитрида

Синтез нанопорошка Si3N4 азотированием из мелкодисперсного порошка кремния размером ок. 5 микрон

Пример композитного порошка

Наночастицы меди осаждаются вокруг частицы вольфрама

Характеристики

ВЧ мощность: макс. 6кВт
Генерация индукционной ВЧ плазмы на основе аргона
Рабочее давление: ок. от 10 до 70 кПа

Грубое указание для эксперимента по синтезу нанопорошка

Порошок сырья: неорганический материал из металла или керамики.
Размер порошка: ок. от 1 до 10 мкm *1 *2
Скорость подачи порошка: от 0.1 до 1 г/мин *1 *2

  • В зависимости от вида/размера/веса/формы/состояния порошка.

  • Порошки размером более 10 мк могут использоваться для обработки модификации поверхности,
    поверхностная химическая реакция и сфероидизация.
    И скорость может быть более 1 г/мин.

утилита

Подводимая мощность Φ3 AC200V±5% прибл.50A
Охлаждающая вода ок. всего 60л/мин
Качество воды : Степень водопроводной воды
Давление на входе: от 0.3 до 0.4 МПа
Давление на выходе: 0.1 МПа или менее
Газы для плазмы Ar=макс.50л/мин *3
O2= макс. 5 л/мин (опционально)
N2= макс. 5 л/мин (опционально)
H2 *4
Газ-носитель=макс. 10 л/мин (опционально)
земля 10 Ом или менее
  • Фактическое использование: ок. от 30 до 40 л/мин

  • Необходимо учитывать меры безопасности.

Внешние размеры

Скачать буклет

Приложения

Приложение TP-40020NPS

Связанные товары

Подробнее

Основы электронной микроскопии

Простое объяснение механизмов и
применения продуктов JEOL

Закрыть
Уведомление

Вы медицинский работник или персонал, занимающийся медицинским обслуживанием?

Нет

Напоминаем, что эти страницы не предназначены для предоставления широкой публике информации о продуктах.

Контакты

JEOL предлагает широкий ряд услуг по техническому обслуживанию и ремонту, чтобы наши клиенты могли спокойно и осознанно работать с оборудованием.
Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!