Серия BS/JEBG/EBG
Источник электронного пучка

Электронно-лучевые источники/источники питания для электронно-лучевого напыления, используемые для создания различных типов пленок, в том числе оптических пленок и электродных покрытий.

Особенности

Особенности метода электронно-лучевого напыления

• Тепловой КПД довольно хороший из-за нагрева от прямого облучения электронным лучом осаждаемого материала. Можно испарять различные материалы, включая металлы с высокой температурой плавления, оксиды, соединения и сублимационные материалы.

• Поскольку осаждаемый материал нагревается непосредственно в тигле с водяным охлаждением (*), реакция лодочки или тигля, как при методах резистивного или индукционного нагрева, отсутствует.

• В некоторых случаях используется вкладыш для очага.

• Поскольку доступно высокоскоростное управление выходом, можно точно контролировать толщину пленки.

• По сравнению с методами напыления и CVD скорость создания пленки является главной особенностью. Это также полезно для создания толстых покрытий толщиной 1 мкм и более.

Особенности источников электронного пучка JEOL

[ Оксиды ]

Отличается углом падения луча, перпендикулярным осаждаемому материалу, и пятном луча с высокой плотностью энергии, которое представляет собой почти идеальный круг. Поскольку функция высокоскоростной очистки является стандартной, она подходит для нанесения на сублимационные материалы и оксиды с низкой теплопроводностью и высокой температурой плавления. Может получить отличные расплавленные остатки, обеспечивая равномерное, воспроизводимое распределение толщины пленки на большой площади.

[ Металлы ]

Доступен выбор из широкого спектра тиглей, обеспечивающих многотипное, крупнообъемное и высокоскоростное осаждение. Существует также электронная пушка, совместимая с процессом отрыва, чтобы ограничить повышение температуры во время создания пленки.

[ Сплав/ Многослойные покрытия ]

Сплавные и многослойные покрытия можно создавать, помещая различные материалы в соседние тигли с 2 или 3 гнездами и выполняя одновременное осаждение из 2 или 3 источников с помощью специальных контроллеров развертки.

Ссылки на похожие продукты

БС-60060ДЕБС

Источник электронного пучка BS-60211DEM/BS-60210DEM

ЭБГ-102ИНСТРУМЕНТ

ЭБГ-203ИНСТРУМЕНТ

Характеристики

• Поскольку максимальная мощность блока питания ЭП составляет 16 кВт, фактическая максимальная мощность, которую можно использовать, составляет 16 кВт.

• Доступен по специальному заказу ⇒12cc×4 или 6 мест и т.д.

• Доступны варианты формы лунки тигля ⇒ 28 см45 (φ20×6h) × 51 точек, 60 см20 (φ3 × XNUMXh) × XNUMX точки и т. д.

• Доступен по специальному заказу ⇒ 40 куб. см (φ50 × 25 в) × 4 или 6 точек, 114 куб. см (φ 75 × 30 в) × 1 точка и т. Д.

• Доступны по специальному заказу ⇒114cc（φ75×30h）×1 точка, φ34×20h×3 отверстия в 1 кармане (для одновременного осаждения), φ70×30h×4 точки и т. д.

Пожалуйста, узнайте о характеристиках тигля

Скачать буклет

Источник электронного луча серии BS/JEBG/EBG

Связанные товары

Источник электронного луча BS-60060DEBS

Источник электронного пучка, обеспечивающий максимальную минимизацию дозы обратно рассеянных электронов на подложку. Все функции и производительность BS-60050EBS с добавлением нити накаливания с более длительным сроком службы и улучшенной воспроизводимостью.

Источник электронного пучка BS-60211DEM/BS-60210DEM

Источник электронного луча для вакуумного осаждения металла подходит для низкотемпературных процессов, таких как процесс отрыва электродной пленки. Этот источник электронного луча оснащен ловушкой обратно рассеянных электронов и разработан для предотвращения перекрестного загрязнения.

EBG-102 TOOL Приспособление для сборки сетки

EBG-203 TOOL Приспособление для сборки сетки

Подробнее