Источник электронного луча для вакуумного осаждения металла, подходящий для низкотемпературного процесса, такого как процесс отрыва электродной пленки.
Этот источник электронного луча оснащен ловушкой обратно рассеянных электронов и спроектирован так, чтобы предотвратить перекрестное загрязнение.
Особенности
Низкотемпературное и малоповреждающее осаждение
В стандартной комплектации установлена высокоэффективная ловушка обратнорассеянных электронов, позволяющая улавливать диффундирующие отраженные электроны.
А усиленный охлаждающий эффект источника электронного луча может снизить тепловое излучение вокруг источника испарения.
Эти два эффекта позволяют снизить повышение температуры подложек при высокоскоростном осаждении металлических веществ.
А также может уменьшить повреждение подложек и / или нижних слоев, вызванное облучением отраженными электронами.
Обычные электронные пушки вызывают повышение температуры подложки во время вакуумного напыления из-за теплового эффекта обратно рассеянных электронов и теплового излучения вокруг источника испарения.
Стенка камеры, опорная плита и крышки нагреваются от ударов обратнорассеянных электронов, а затем оттуда возникает тепло вторичного и третичного излучения.
Когда обратнорассеянные электроны облучают подложку напрямую, температура подложки сильно возрастает.
Коэффициент эмиссии отраженных электронов
Материал с более высоким атомным номером отражает больше электронов.
Золото и платина испускают почти половину электронов.
Энергия отраженного электрона почти равна энергии падающего.
При ускоряющем напряжении источника электронного луча -10 кВ энергия отраженного электрона составляет ок. 10кВ.
Толстопленочное осаждение / Многослойное покрытие
Дополнительные тигли большой емкости на 40 мл (с 4 или 6 гнездами) позволяют наносить толстые пленки и/или наносить многослойное покрытие с использованием нескольких испаряемых материалов.
Предотвращение перекрестного загрязнения
Предотвратите попадание загрязнения испаряемого материала в соседние карманы.
Простота обслуживания
Каждая крышка легко снимается, поэтому очистка от отложений испаряющихся материалов не доставляет особых хлопот.
Дополнительные тигли можно снять и отделить от электронного пистолета. А верхний очаг сменный.
Срок службы нити большой, и замена нити также проста.
Пример скорости осаждения металлических материалов
Процесс взлета
Поток процесса формирования пленки отрыва
Способен поддерживать температуру подложки во время вакуумного напыления на уровне менее 100°С.
Таким образом, можно предотвратить деформацию рисунка резиста, что позволяет улучшить коэффициент текучести в процессе отрыва.
Примеры применения: формирование электродной пленки светодиодов, фильтров на ПАВ, силовых полупроводников, МЭМС и т. д.
Характеристики
| БС-60211DEM | Источник электронного луча (максимальная мощность 10 кВт) |
|---|---|
| БС-60210DEM | Источник электронного пучка (максимальная мощность 10 кВт) |
| БС-60141Х4М | 40 мл (Φ50 мм × 25 мм В) × 4-гнездной тигель |
| БС-60140Х4М | 40 мл (Φ50 мм × 25 мм В) × 4-гнездной тигель |
| БС-60151Х6М | 40 мл (Φ50 мм × 25 мм В) × 6-гнездной тигель |
| БС-60150Х6М | 40 мл (Φ50 мм × 25 мм В) × 6-гнездной тигель |
Различия между моделями электронно-лучевых источников и тиглей заключаются только в соединении трубопроводов охлаждающей воды.
Внешние размеры
Длина 4-гнездного тигля 220 мм.
Подробнее
Вы медицинский работник или персонал, занимающийся медицинским обслуживанием?
Нет
Напоминаем, что эти страницы не предназначены для предоставления широкой публике информации о продуктах.