Простой и легкий анализ химической связи в XPS

Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия (РФЭС) широко используется для элементного анализа и анализа химического состояния на поверхности металлических, полимерных и полупроводниковых материалов. Поскольку XPS использует рентгеновские лучи в качестве источника возбуждения, образцы не накапливают заряд и подвергаются минимальному повреждению. Это одно из преимуществ перед другими анализаторами поверхности. Для дальнейшего повышения его производительности была разработана новая компьютерная система для XPS. В общих чертах эта новая система выглядит следующим образом.