Закрыть кнопку

Выберите свой региональный сайт

Закрыть

Анализ деградированного полистирола под действием УФ-облучения с использованием MALDI-TOFMS высокого разрешения и пиролиз-GC-QMS [Применение MALDI и GC-QMS]

MSTips №322

Полимеры могут разлагаться под воздействием света, кислорода, тепла и т. д., поэтому важно понимать, как изменяется структура полимера в процессе разложения. Квадрупольный масс-спектрометр с пиролизным газовым хроматографом (Py-GC-QMS) и времяпролетный масс-спектрометр с лазерной десорбцией/ионизацией с матрицей (MALDI-TOFMS) являются мощными инструментами для анализа полимерных материалов. Py-GC-QMS — это метод, который мгновенно нагревает образец с помощью пиролизера, а затем анализирует продукты пиролиза с помощью GC-MS. Поскольку большинство продуктов пиролиза относятся к мономерам и димерам, этот метод позволяет легко идентифицировать субструктуры полимера, что полезно для выявления изменений в полимере при его разложении. MALDI-TOFMS включает в себя метод мягкой ионизации, который может непосредственно ионизировать и анализировать неповрежденные полимерные молекулы и часто производит однозарядные ионы даже для соединений с высокой молекулярной массой. В результате м / г ось масс-спектра равна массе ионов, что упрощает интерпретацию распределения полимеров. Кроме того, когда MALDI используется с TOFMS высокого разрешения, точную массу каждого иона в полимерном ряду можно использовать для расчета их элементного состава. Более того, молекулярно-массовое распределение полимеров можно рассчитать по распределению интенсивности ионов. В этой работе мы использовали Py-GC-QMS и MALDI-TOFMS высокого разрешения для оценки воздействия УФ-облучения на полистирол (ПС).

JMS-Q1500GC
JMS-Q1500GC
JMS-S3000 «СпиральТОФТМ-плюс»
JMS-S3000 "СпиральТОФ™-плюс"

Эксперимент

Полистирол (А-5000, молекулярная масса 5000, концевые группы Н/С4H9 ), изготовленный корпорацией Tosoh, был использован для образца. Для разложившегося образца PS подвергали УФ-облучению в течение 3 часов с использованием Portable Cure 100 (SEN LIGHTS Co., Ltd.). JMS-Q1500GC, оснащенный пиролизером (Frontier Labs), использовали для измерений Py-GC-MS. Для этих измерений образцы до и после УФ-облучения были взвешены с точностью до ~0.2 мг и измерены в условиях, показанных в таблице 1. Анализатор Pro (SpectralWorks Ltd.) использовался для прямого сравнения их различий, а поиск в библиотеке NIST использовался для определения соединения, которые показали значительные различия между до и после УФ-облучения.
JMS-S3000 использовался для измерений MALDI-TOFMS. Образцы до и после УФ-облучения растворяли в тетрагидрофуране (ТГФ) в концентрации 1 мг/мл. В качестве матрицы и катионизатора использовали DCTB (раствор ТГФ 20 мг/мл) и трифторацетат серебра (AgTFA, раствор ТГФ 1 мг/мл) соответственно. Смесь раствора образца, раствора матрицы и раствора катионизатора в соотношении 1:10:1 (об./об./об.) пипеткой наносили на планшет-мишень и сушили на воздухе. Масс-спектры получали в режиме положительных ионов SpiralTOF с высоким разрешением. После этого был проведен анализ дефекта массы Кендрика (KMD) с использованием программного обеспечения JEOL msRepeatFinder.

Таблица 1 Условия измерения Py-GC-QMS

Условия пиролиза
Пиролизер PY-3030D (Frontier Laboratories Ltd.)
Температура пиролиза 600 ° C
Условия ГХ
GC 7890A (Аджилент Текнолоджис, Инк.)
Column ZB-5 (Феноменекс Инк.) 
30 м x внутренний диаметр 0.25 мм, df=0.25 мкм
Температура порта впрыска 320 ° C
Температура духовки 40°C (2 мин)→20°C/мин→320°C (20 мин)
Режим впрыска Сплит 100:1
Газ-носитель He, 1.0 мл/мин (постоянный поток)
Состояние МС
спектрометр JMS-Q1500GC (JEOL Ltd.)
Температура источника ионов
 
250 ° C
Температура интерфейса. 320 ° C
Режим ионизации EI
Энергия ионизации 70эВ
Ток ионизации 50 мкА
Режим измерения Сканировать (м/з 29 ~ 600)
Относительное ЭМ напряжение 100 V

Результаты Py-GC-MS

Хроматограмма полного ионного тока (TICC) до и после УФ-облучения показана на рисунке 1. Основными компонентами, наблюдаемыми в этих измерениях, были мономер, димер и тример стирола, причем до и после УФ-облучения существенных различий не наблюдалось. Затем Analyzer Pro использовали для быстрого анализа данных на наличие различий и обнаружили, что пики при RT 6.17 и 7.05 мин (рис. 3A [1], [2]) были обнаружены только в образце после УФ-облучения. Затем поиск этих пиков в библиотеке NIST показал высокие коэффициенты соответствия (MF) для ацетофенона и бензойной кислоты соответственно (рис. 3B [1], [2]). Интересно, что хроматограмма извлеченных ионов (ЭИК) для м / г 106 (С7H6O), который является общим фрагментным ионом для этих двух соединений, также показал пик при комнатной температуре 5.26 мин, который присутствовал только в облученном образце (рис. 3A [3]). Поиск в библиотеке NIST помог подтвердить, что это соединение, вероятно, представляет собой бензальдегид, структурно сходный с двумя другими соединениями. Согласно ссылке 2 в составе основных продуктов пиролиза ПС отсутствуют кислородсодержащие соединения. Более того, поскольку концевыми группами для этого ПС являются H и C4H9, исходный материал образца не содержит кислорода. Следовательно, эти три продукта пиролиза, обнаруженные после УФ-облучения, скорее всего, являются результатом фотоокисления под действием УФ-облучения.

Рисунок 1 TICC PS до и после УФ-облучения с использованием Py-GC-QMS

Рисунок 1 TICC PS до и после УФ-облучения с использованием Py-GC-QMS

Рисунок 2. Различия в TICC до и после УФ-облучения.

Рисунок 2. Различия в TICC до и после УФ-облучения.

Результаты MALDI-TOFMS

Масс-спектры MALDI-TOFMS до и после УФ-облучения показаны на рисунке 3а. Ионы аддукта серебра PS ([M+Ag]+) с Г/С4H9 концевые группы наблюдались в масс-спектрах как до, так и после УФ-облучения. На рис. 3b показаны увеличенные масс-спектры вокруг м / г 5000, который четко показывает наличие 3 дополнительных серий пиков в облученном образце, которые имеют разность масс атома кислорода (15.995 Да), что указывает на присутствие от одного до трех атомов кислорода. Графики остаточной массы Кендрика (RKM) для обоих масс-спектров показаны на рисунке 4. График RKM подтвердил, что в облученном образце PS присутствовало от одного до четырех атомов кислорода. Кроме того, общая молекулярная масса PS была снижена за счет УФ-облучения. Эти результаты предполагают, что УФ-облучение приводит к добавлению кислорода к повторяющейся структуре PS, как показано на рисунке 5 (ссылка 2).

Рис. 3. Масс-спектры ПС до и после УФ-облучения методом MALDI-TOFMS.

Рис. 3. Масс-спектры ПС до и после УФ-облучения методом MALDI-TOFMS.

Рис. 4 График RKM PS до и после УФ-облучения

Рис. 4 График RKM PS до и после УФ-облучения

Рис. 5 Расчетная структура ПС после УФ-облучения

Рис. 5 Расчетная структура ПС после УФ-облучения

Заключение

Результаты как для Py-GC-QMS, так и для MALDI-TOFMS показали, что воздействие на PS УФ-излучения вызывает фотоокисление повторяющейся структуры. MALDI-TOFMS с высоким разрешением является ценным методом анализа полимеров, поскольку он ионизирует неповрежденный полимер для точных измерений массы, которые можно использовать для масс-анализа Кендрика (KMD, RKM). С другой стороны, Py-GC-QMS полезен для определения информации о частичной структуре полимеров, а также для выявления изменений в их подструктурах во время деградации. В результате Py-GC-QMS и MALDI-TOFMS являются дополнительными методами, которые могут быть полезны для мониторинга деградации полимерных материалов.

Справка

  • С. Цугэ, Х. Отани, К. Ватанабэ: Пиролиз - Сборник данных ГХ/МС синтетических полимеров: пирограммы, термограммы и МС пиролизатов. Первое издание, Elsevier, 2011.
  • Mailhot and Gardette, Macromolecules, Vol. 25, № 16, 1992.
Дополнительную информацию см. в файле PDF.
Другое окно открывается при нажатии.

PDF 752.6KB

Решения по областям применения

Закрыть
Уведомление

Вы медицинский работник или персонал, занимающийся медицинским обслуживанием?

Нет

Напоминаем, что эти страницы не предназначены для предоставления широкой публике информации о продуктах.

Основы электронной микроскопии

Простое объяснение механизмов и
применения продуктов JEOL

Контакты

JEOL предлагает широкий ряд услуг по техническому обслуживанию и ремонту, чтобы наши клиенты могли спокойно и осознанно работать с оборудованием.
Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!