Анализ деградированного полистирола под действием УФ-облучения с использованием MALDI-TOFMS высокого разрешения и пиролиз-GC-QMS.
MSTips №322
Полимеры могут разлагаться под воздействием света, кислорода, тепла и т. д., поэтому важно понимать, как изменяется структура полимера в процессе разложения. Квадрупольный масс-спектрометр с пиролизным газовым хроматографом (Py-GC-QMS) и времяпролетный масс-спектрометр с лазерной десорбцией/ионизацией с матрицей (MALDI-TOFMS) являются мощными инструментами для анализа полимерных материалов. Py-GC-QMS — это метод, который мгновенно нагревает образец с помощью пиролизера, а затем анализирует продукты пиролиза с помощью GC-MS. Поскольку большинство продуктов пиролиза относятся к мономерам и димерам, этот метод позволяет легко идентифицировать субструктуры полимера, что полезно для выявления изменений в полимере при его разложении. MALDI-TOFMS включает в себя метод мягкой ионизации, который может непосредственно ионизировать и анализировать неповрежденные полимерные молекулы и часто производит однозарядные ионы даже для соединений с высокой молекулярной массой. В результате м / г ось масс-спектра равна массе ионов, что упрощает интерпретацию распределения полимеров. Кроме того, когда MALDI используется с TOFMS высокого разрешения, точную массу каждого иона в полимерном ряду можно использовать для расчета их элементного состава. Более того, молекулярно-массовое распределение полимеров можно рассчитать по распределению интенсивности ионов. В этой работе мы использовали Py-GC-QMS и MALDI-TOFMS высокого разрешения для оценки воздействия УФ-облучения на полистирол (ПС).
JMS-Q1500GC
JMS-S3000 "СпиральТОФ™-плюс"
Эксперимент
Полистирол (А-5000, молекулярная масса 5000, концевые группы Н/С4H9 ), изготовленный корпорацией Tosoh, был использован для образца. Для разложившегося образца PS подвергали УФ-облучению в течение 3 часов с использованием Portable Cure 100 (SEN LIGHTS Co., Ltd.). JMS-Q1500GC, оснащенный пиролизером (Frontier Labs), использовали для измерений Py-GC-MS. Для этих измерений образцы до и после УФ-облучения были взвешены с точностью до ~0.2 мг и измерены в условиях, показанных в таблице 1. Анализатор Pro (SpectralWorks Ltd.) использовался для прямого сравнения их различий, а поиск в библиотеке NIST использовался для определения соединения, которые показали значительные различия между до и после УФ-облучения.
JMS-S3000 использовался для измерений MALDI-TOFMS. Образцы до и после УФ-облучения растворяли в тетрагидрофуране (ТГФ) в концентрации 1 мг/мл. В качестве матрицы и катионизатора использовали DCTB (раствор ТГФ 20 мг/мл) и трифторацетат серебра (AgTFA, раствор ТГФ 1 мг/мл) соответственно. Смесь раствора образца, раствора матрицы и раствора катионизатора в соотношении 1:10:1 (об./об./об.) пипеткой наносили на планшет-мишень и сушили на воздухе. Масс-спектры получали в режиме положительных ионов SpiralTOF с высоким разрешением. После этого был проведен анализ дефекта массы Кендрика (KMD) с использованием программного обеспечения JEOL msRepeatFinder.
Таблица 1 Условия измерения Py-GC-QMS
Условия пиролиза | |
---|---|
Пиролизер | PY-3030D (Frontier Laboratories Ltd.) |
Температура пиролиза | 600 ° C |
Условия ГХ | |
GC | 7890A (Аджилент Текнолоджис, Инк.) |
Column | ZB-5 (Феноменекс Инк.) 30 м x внутренний диаметр 0.25 мм, df=0.25 мкм |
Температура порта впрыска | 320 ° C |
Температура духовки | 40°C (2 мин)→20°C/мин→320°C (20 мин) |
Режим впрыска | Сплит 100:1 |
Газ-носитель | He, 1.0 мл/мин (постоянный поток) |
Состояние МС | |
---|---|
спектрометр | JMS-Q1500GC (JEOL Ltd.) |
Температура источника ионов |
250 ° C |
Температура интерфейса. | 320 ° C |
Режим ионизации | EI |
Энергия ионизации | 70эВ |
Ток ионизации | 50 мкА |
Режим измерения | Сканировать (м/з 29 ~ 600) |
Относительное ЭМ напряжение | 100 V |
Результаты Py-GC-MS
Хроматограмма полного ионного тока (TICC) до и после УФ-облучения показана на рисунке 1. Основными компонентами, наблюдаемыми в этих измерениях, были мономер, димер и тример стирола, причем до и после УФ-облучения существенных различий не наблюдалось. Затем Analyzer Pro использовали для быстрого анализа данных на наличие различий и обнаружили, что пики при RT 6.17 и 7.05 мин (рис. 3A [1], [2]) были обнаружены только в образце после УФ-облучения. Затем поиск этих пиков в библиотеке NIST показал высокие коэффициенты соответствия (MF) для ацетофенона и бензойной кислоты соответственно (рис. 3B [1], [2]). Интересно, что хроматограмма извлеченных ионов (ЭИК) для м / г 106 (С7H6O), который является общим фрагментным ионом для этих двух соединений, также показал пик при комнатной температуре 5.26 мин, который присутствовал только в облученном образце (рис. 3A [3]). Поиск в библиотеке NIST помог подтвердить, что это соединение, вероятно, представляет собой бензальдегид, структурно сходный с двумя другими соединениями. Согласно ссылке 2 в составе основных продуктов пиролиза ПС отсутствуют кислородсодержащие соединения. Более того, поскольку концевыми группами для этого ПС являются H и C4H9, исходный материал образца не содержит кислорода. Следовательно, эти три продукта пиролиза, обнаруженные после УФ-облучения, скорее всего, являются результатом фотоокисления под действием УФ-облучения.

Рисунок 1 TICC PS до и после УФ-облучения с использованием Py-GC-QMS

Рисунок 2. Различия в TICC до и после УФ-облучения.
Результаты MALDI-TOFMS
Масс-спектры MALDI-TOFMS до и после УФ-облучения показаны на рисунке 3а. Ионы аддукта серебра PS ([M+Ag]+) с Г/С4H9 концевые группы наблюдались в масс-спектрах как до, так и после УФ-облучения. На рис. 3b показаны увеличенные масс-спектры вокруг м / г 5000, который четко показывает наличие 3 дополнительных серий пиков в облученном образце, которые имеют разность масс атома кислорода (15.995 Да), что указывает на присутствие от одного до трех атомов кислорода. Графики остаточной массы Кендрика (RKM) для обоих масс-спектров показаны на рисунке 4. График RKM подтвердил, что в облученном образце PS присутствовало от одного до четырех атомов кислорода. Кроме того, общая молекулярная масса PS была снижена за счет УФ-облучения. Эти результаты предполагают, что УФ-облучение приводит к добавлению кислорода к повторяющейся структуре PS, как показано на рисунке 5 (ссылка 2).

Рис. 3. Масс-спектры ПС до и после УФ-облучения методом MALDI-TOFMS.

Рис. 4 График RKM PS до и после УФ-облучения
Рис. 5 Расчетная структура ПС после УФ-облучения
Заключение
Результаты как для Py-GC-QMS, так и для MALDI-TOFMS показали, что воздействие на PS УФ-излучения вызывает фотоокисление повторяющейся структуры. MALDI-TOFMS с высоким разрешением является ценным методом анализа полимеров, поскольку он ионизирует неповрежденный полимер для точных измерений массы, которые можно использовать для масс-анализа Кендрика (KMD, RKM). С другой стороны, Py-GC-QMS полезен для определения информации о частичной структуре полимеров, а также для выявления изменений в их подструктурах во время деградации. В результате Py-GC-QMS и MALDI-TOFMS являются дополнительными методами, которые могут быть полезны для мониторинга деградации полимерных материалов.
ID
- С. Цугэ, Х. Отани, К. Ватанабэ: Пиролиз - Сборник данных ГХ/МС синтетических полимеров: пирограммы, термограммы и МС пиролизатов. Первое издание, Elsevier, 2011.
- Mailhot and Gardette, Macromolecules, Vol. 25, № 16, 1992.
- Дополнительную информацию см. в файле PDF.
Другое окно открывается при нажатии.
PDF 752.6KB


Вы медицинский работник или персонал, занимающийся медицинским обслуживанием?
Нет
Напоминаем, что эти страницы не предназначены для предоставления широкой публике информации о продуктах.