JBX-9500FS — это электронно-лучевая система 100 кВ, которая обеспечивает высочайшую в мире пропускную способность и точность позиционирования среди систем точечной литографии. Эта система EB может вмещать до 300 мм Φ пластины и до 6-дюймовой маски, таким образом, отвечая на исследования и разработки и производство в различных областях, таких как наноимпринт, фотонные устройства и устройства связи.
Особенности
В дополнение к максимальной скорости сканирования 100 МГц, JBX-9500FS обеспечивает точность наложения ±11 нм, точность сшивки полей ±10 нм и точность позиционирования в пределах поля ±9 нм при размере поля 1000 мкм × 1000 мкм. Таким образом, JBX-9500FS представляет собой электронно-лучевую систему на 100 кВ, которая обеспечивает высочайшую в мире пропускную способность и точность позиционирования среди систем точечной литографии.
Поскольку JBX-9500FS использует ЦАП позиционирования луча 20 бит и ЦАП сканирования 14 бит, шаг сканирования с более высоким разрешением 0.25 нм достигается для записи данных с шагом 1 нм, таким образом, воспроизводя более точные записываемые данные.
Его высокая скорость сканирования до 100 МГц позволяет JBX-9500FS поддерживать короткие шаги сканирования при записи с большим током, тем самым увеличивая пропускную способность, даже когда требуется высокоточная запись шаблона.
Лучшая в мире точность позиционирования достигается за счет LBC (управление лазерным лучом), который обеспечивает высокое разрешение и минимальный шаг позиционирования луча 0.15 нм (λ/4096).
Кроме того, уникальная функция автоматической калибровки (функция автоматической коррекции), разработанная JEOL, обеспечивает высоконадежную и стабильную запись шаблона в течение длительного периода времени. Время автокоррекции может быть установлено для каждого поля или каждого шаблона. Эта функция очень эффективна при длительной записи без оператора, например, в выходные или праздничные дни.
JBX-9500FS может вмещать до 300 мм Φ пластины и до 6-дюймовой маски, таким образом, отвечая на исследования и разработки и производство в различных областях, таких как наноимпринт, фотонные устройства и устройства связи. Добавление системы транспортировки кассет материала (опция) позволяет этой системе EB загружать до 10 кассет.
Использование программы Fine Pitch Control Program (программа точной модуляции размера поля) позволяет JBX-9500FS изготавливать решетку с чирпированным периодом, такую как лазер DFB.
Результаты внедрения
За более чем 40 лет компания JEOL поставила большое количество электронно-лучевых систем исследовательским институтам и производственным линиям в Японии и за рубежом.
Характеристики
| Электронная пушка | ZrO/W типа Шоттки |
|---|---|
| Метод письма | Точечный луч, векторное сканирование, шаг и повтор |
| Акк. Напряжение | 100kV |
| Размер материала | Размер материала (возможна загрузка): пластина до 300 ммΦ, маска до 6 дюймов, микрообразец любого размера |
| Максимальный размер поля | 1000мкм×1000мкм |
| Диапазон движения сцены | 260mmX240mm |
| Блок управления сценой | 0.15 нм (λ/4096) |
| Точность наложения | ≦ ± 11 нм |
| Точность полевой строчки | ≦ ± 10 нм (поле 1000 мкм × 1000 мкм) |
| Точность позиционирования в плоскости поля | ≦ ± 9 нм (поле 1000 мкм × 1000 мкм) |
| ЦАП позиционирования луча | 20bit |
| Скорость сканирования | До 100MHz |
Подробнее
Вы медицинский работник или персонал, занимающийся медицинским обслуживанием?
Нет
Напоминаем, что эти страницы не предназначены для предоставления широкой публике информации о продуктах.