JBX-3200MV — это электронно-лучевая литографическая система переменной формы для изготовления масок узлов размером от 28 нм до 22/20 нм. Его передовая технология обеспечивает высокую скорость, высокую точность и высокую надежность. В этой ЭЛ-системе используется электронный пучок 50 кВ переменной формы и пошаговый предметный столик для образцов.
Особенности
Используя достоинства пошагового метода записи, эта система EB сочетает в себе различные функции, такие как функция модуляции записи-дозы и функция записи-наложения, что позволяет поддерживать универсальные исправления, необходимые для формирования шаблона масок следующего поколения. и сетки.
Магазины пленных масок и магазины торговых масок в Японии и за рубежом
(имена заказчиков не разглашаются)
Магазины пленных масок и магазины торговых масок в Японии и за рубежом
(имена заказчиков не разглашаются)
Характеристики
| Точность шитья | ≦±3.5 нм |
|---|---|
| Точность наложения | ≦±5 нм |
Подробнее
Вы медицинский работник или персонал, занимающийся медицинским обслуживанием?
Нет
Напоминаем, что эти страницы не предназначены для предоставления широкой публике информации о продуктах.