Закрыть кнопку

Выберите свой региональный сайт

Закрыто

JBX-3200MVS
Системы электронно-лучевой литографии

Система электронно-лучевой литографии JBX-3200MVS

JBX-3200MVS — это система литографии электронного луча переменной формы для изготовления масок с узлами от 32 нм до 28 нм. Ее передовая технология обеспечивает высокую скорость, высокую точность и высокую надежность. Эта система EB использует электронный луч переменной формы напряжением 50 кВ и пошаговый и повторяющийся столик образца.

Особенности

Используя преимущества метода пошагового и повторного письма, эта система EB объединяет различные функции, такие как функция модуляции дозы письма и функция наложения письма, что позволяет поддерживать универсальные коррекции, необходимые для создания шаблонов старых масок и сеток.
Магазины пленных масок и магазины торговых масок в Японии и за рубежом
(имена заказчиков не разглашаются)

Характеристики

Точность шитья ≦±3.5 нм
Точность наложения ≦±5 нм

Подробнее

Основы электронной микроскопии

Простое объяснение механизмов и
применения продуктов JEOL

Закрыто
Уведомление

Вы медицинский работник или персонал, занимающийся медицинским обслуживанием?

Нет

Напоминаем, что эти страницы не предназначены для предоставления широкой публике информации о продуктах.

Контакты

JEOL предлагает широкий ряд услуг по техническому обслуживанию и ремонту, чтобы наши клиенты могли спокойно и осознанно работать с оборудованием.
Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!