JBX-3200MVS — это система литографии электронного луча переменной формы для изготовления масок с узлами от 32 нм до 28 нм. Ее передовая технология обеспечивает высокую скорость, высокую точность и высокую надежность. Эта система EB использует электронный луч переменной формы напряжением 50 кВ и пошаговый и повторяющийся столик образца.
Особенности
Используя преимущества метода пошагового и повторного письма, эта система EB объединяет различные функции, такие как функция модуляции дозы письма и функция наложения письма, что позволяет поддерживать универсальные коррекции, необходимые для создания шаблонов старых масок и сеток.
Магазины пленных масок и магазины торговых масок в Японии и за рубежом
(имена заказчиков не разглашаются)
Магазины пленных масок и магазины торговых масок в Японии и за рубежом
(имена заказчиков не разглашаются)
Характеристики
Точность шитья | ≦±3.5 нм |
---|---|
Точность наложения | ≦±5 нм |
Подробнее


Вы медицинский работник или персонал, занимающийся медицинским обслуживанием?
Нет
Напоминаем, что эти страницы не предназначены для предоставления широкой публике информации о продуктах.