Закрыть кнопку

Выберите свой региональный сайт

Закрыто

JBX-3050МВ
Системы электронно-лучевой литографии

Система электронно-лучевой литографии JBX-3050MV

JBX-3050MV — это электронно-лучевая литографическая система переменной формы для изготовления масок с узлами размером от 45 до 32 нм. Его передовая технология обеспечивает высокую скорость, высокую точность и высокую надежность. В этой системе EB используется электронный пучок 50 кВ переменной формы и пошаговый каскад.

Особенности

JBX-3050MV — это система электронно-лучевой литографии для изготовления масок и сеток, соответствующая правилам проектирования от 45 до 32 нм. Эта система отличается высокой скоростью, высокой точностью и высокой надежностью записи шаблонов, достигаемой с помощью передовых технологий.

Характеристики

Точность шитья ≦±3.8 нм
Точность наложения ≦±7 нм

Подробнее

Основы электронной микроскопии

Простое объяснение механизмов и
применения продуктов JEOL

Закрыто
Уведомление

Вы медицинский работник или персонал, занимающийся медицинским обслуживанием?

Нет

Напоминаем, что эти страницы не предназначены для предоставления широкой публике информации о продуктах.

Контакты

JEOL предлагает широкий ряд услуг по техническому обслуживанию и ремонту, чтобы наши клиенты могли спокойно и осознанно работать с оборудованием.
Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!