JBX-3050MV — это электронно-лучевая литографическая система переменной формы для изготовления масок с узлами размером от 45 до 32 нм. Его передовая технология обеспечивает высокую скорость, высокую точность и высокую надежность. В этой системе EB используется электронный пучок 50 кВ переменной формы и пошаговый каскад.
Особенности
JBX-3050MV — это система электронно-лучевой литографии для изготовления масок и сеток, соответствующая правилам проектирования от 45 до 32 нм. Эта система отличается высокой скоростью, высокой точностью и высокой надежностью записи шаблонов, достигаемой с помощью передовых технологий.
Характеристики
| Точность шитья | ≦±3.8 нм |
|---|---|
| Точность наложения | ≦±7 нм |
Подробнее
Вы медицинский работник или персонал, занимающийся медицинским обслуживанием?
Нет
Напоминаем, что эти страницы не предназначены для предоставления широкой публике информации о продуктах.