Закрыть кнопку

Выберите свой региональный сайт

Закрыто

JBX-3050MV/S
Системы электронно-лучевой литографии

Система электронно-лучевой литографии JBX-3050MV/S

JBX-3050MV/S — это система литографии электронного луча переменной формы для масок и сеток с нормой проектирования узла до 45 нм. Ее передовая технология обеспечивает высокую скорость, высокую точность и высокую надежность. Эта система EB использует электронный луч переменной формы 50 кВ и этап шага и повтора.

Особенности

JBX-3050MV/S — это система электронно-лучевой литографии для изготовления масок/сеток, которая соответствует норме проектирования 45 нм. Эта система отличается высокой скоростью, точностью и надежностью записи шаблонов, что достигается за счет передовых технологий.

Характеристики

Точность шитья ≦±3.8 нм
Точность наложения ≦±7 нм

Подробнее

Основы электронной микроскопии

Простое объяснение механизмов и
применения продуктов JEOL

Закрыто
Уведомление

Вы медицинский работник или персонал, занимающийся медицинским обслуживанием?

Нет

Напоминаем, что эти страницы не предназначены для предоставления широкой публике информации о продуктах.

Контакты

JEOL предлагает широкий ряд услуг по техническому обслуживанию и ремонту, чтобы наши клиенты могли спокойно и осознанно работать с оборудованием.
Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!