БС-80011БПГ
Мощный источник плазмы
для плазмы высокой плотности

Источник плазмы встроен в вакуумную камеру и генерирует плазму высокой плотности. Источник плазмы можно использовать для плазменного осаждения (ионного покрытия), и можно улучшить свойства пленки для оптических тонких пленок, защитных пленок и функциональных пленок. А также может использоваться для плазменной обработки, такой как очистка и модификация поверхности.

Особенности

Низковольтная и сильноточная плазма позволяет ионизировать и возбуждать молекулы газа и испаряемые частицы.
Возможно реактивное осаждение, особенно подходящее для ускорения окисления пленки. 
Плазма высокой плотности может генерироваться в массовом пространстве, поэтому возможно высокоскоростное осаждение на большую площадь.
Возможна модернизация существующей вакуумной камеры.

эффект

Улучшение плотности пленки, показателя преломления
Производство экологически устойчивых пленок
Низковолновой сдвиг
Низкое оптическое поглощение (способствует окислению пленки) 
Улучшение адгезии пленки
Улучшение шероховатости поверхности
Контроль стресса пленки

Характеристики

Максимальная мощность плазмы: 6 кВт (160 В, 38 А)
Рабочее давление: 1×10^-2 до 1 × 10^-1Па (Ар, О₂, N₂ атмосфера)
Газ на выходе (Ar): от 8 до 20 мл/мин.
Охлаждающая вода: от 7 до 10 л/мин.
Метод луча: выбирается из луча отражения и луча облучения.

Скачать буклет

BS-80011BPG Мощный источник плазмы для плазмы высокой плотности

Связанные товары

Связанные товары

Источник плазмы BS-80020CPPS для низкотемпературного процесса

Этот источник плазмы предназначен для низкотемпературных процессов, например, для пластиковой подложки/пленки. Качество пленки вакуумного осаждения может быть улучшено с помощью плазменного осаждения при снижении повышения температуры подложки. А также может использоваться для плазменной обработки, такой как очистка и модификация поверхности.

Подробнее