Закрыть кнопку

Выберите свой региональный сайт

Закрыть

Особенности

  • Снижает загрязнение во время наблюдений, сделанных с помощью электронного микроскопа

  • Очищает образцы и инструменты

  • Гидрофилизирует поверхность образца

 

 

Темные участки загрязнения могут постепенно образовываться на поверхности образца при наблюдении в электронном микроскопе.
Это поверхностное загрязнение может скрыть истинную структуру поверхности образца или ухудшить разрешение в загрязненной области.
Вы когда-нибудь видели этот «Темный квадрат»? Это происходит, когда загрязнители на основе углеводородов на поверхности образца облучаются электронным лучом, что приводит к образованию углеродистых отложений.
Excimer UV Cleaner использует УФ-излучение (возбуждение Xe, длина волны 172 нм) для устранения загрязнения поверхности образца. Эту систему также можно использовать для гидрофилизации поверхности образца.

 

Уменьшение загрязнения во время наблюдения

Наблюдение тонкой структуры поверхности в SEM требует визуализации при низком ускоряющем напряжении. В этих условиях
поверхностное загрязнение может скрыть наблюдение этой тонкой структуры.

Наблюдение проводилось при увеличении в 100,000 30,000 раз (левый рисунок), затем при меньшем увеличении в 100,000 XNUMX раз (правый рисунок). Когда образец не обработан (верхний ряд), часть, наблюдаемая в XNUMX XNUMX раз, становится темнее и менее четкой. Однако после его очистки с помощью Excimer UV Cleaner (нижний ряд) загрязнения, вызванные облучением электронным пучком, меньше, так как на поверхности образца меньше углеводородных соединений.

 

Очистка загрязнения, прилипшего к поверхности образца

Если образец используется или хранится длительное время, контаминация накапливается за счет органических соединений, содержащихся в окружающей среде.

Excimer UV Cleaner может устранить загрязнения, вызванные органическими веществами в сухой среде.

 

Гидрофилизация

Когда Excimer UV Cleaner излучает УФ-свет, образуются активные формы кислорода, которые могут образовывать полярные функциональные группы на поверхности.
что улучшает гидрофильность. Этот процесс предварительной обработки можно применять для улучшения сцепления при обработке образца для ЭМ наблюдения.

Механизм очистки образцов
/ Гидрофилизация с использованием эксимерного УФ-очистителя

Процесс загрязнения, вызванный электронным лучом

Процесс очистки

Высоту лотка для образцов можно регулировать, чтобы он подходил для больших образцов.

Характеристики

Длина волны облученного УФ-света 172 нм
Максимальный размер образца 105 мм (Ш) × 105 мм (Г) × 70 мм (В)
Максимальная масса образца 1 кг
Время облучения От 10 секунд до 99 минут
Вакуумный насос Мембранный сухой вакуумный насос
Установка
требования:
Питания Одна фаза от 90 до 110 В переменного тока, 50/60 Гц, 500 ВА
Размеры и вес
(кабели и вакуумные трубки в комплект не входят)
Основной блок 39 см (Ш) × 50 см (Г) × 32 см (В), примерно 22 кг
Вакуумный насос 50 см (Ш) × 20 см (Г) × 30 см (В), примерно 9 кг
Комнатная температура 15 до 30 ℃
Влажность 60% (относительная влажность) или меньше (без конденсации)
Регулярная замена деталей (заменяйте их каждый раз, когда совокупное время облучения достигает 1000 часов) УФ-лампа, вакуумметр, уплотнительное кольцо и т. д.

* Примечание. Технические характеристики гарантируются при отсутствии изменений или дополнений и могут быть изменены без предварительного уведомления.

Скачать буклет

Связанные товары

Закрыть
Уведомление

Вы медицинский работник или персонал, занимающийся медицинским обслуживанием?

Нет

Напоминаем, что эти страницы не предназначены для предоставления широкой публике информации о продуктах.

Контакты

JEOL предлагает широкий ряд услуг по техническому обслуживанию и ремонту, чтобы наши клиенты могли спокойно и осознанно работать с оборудованием.
Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!